CTO ve FTO Yarıiletken ince filmlerinin üretimi ve bazı fiziksel özelliklerinin incelenmesi

Abstract

Yarıiletkenleri önemli ve kullanışlı kılan en karakteristik özelliği değerlik elektronlarının ısı, ışık, ses elektrik veya manyetik etki gibi dış müdahaleler ile iletkenlik kazanmalarıdır. Yarıiletken çeşitliliğinin artmasını sağlayan gelişmelerin başında ise ince film üretme yöntemlerinde yaşanan farklılaşmadır. İnce filmlerin üretim tekniklerindeki çeşitlilik; elektrik, manyetik ve optik özellikleri farklı olan yeni malzemelerin üretilmesini sağlamıştır. Son dönemde fotovoltaik hücrelerin çeşitlendirilmesi ve verimliliğinin arttırılması farklı optoelektronik özelliklere sahip ince film üretimi üzerine yapılan çalışmalar artmaktadır. Bu çalışmada; katkılı ve katkısız TiO2 ince filmlerin üretiminde, literatüre yeni kazandırdığımız sol-gel manyetik döndürerek kaplama yöntemi kullanılmıştır. Katkılamanın etkisinin araştırılması için TiO2 ince filmlere farklı oranlarda Bakır (Cu) ve Demir (Fe) katkılanarak katkılı ince filmler üretilmiştir. Katkılamanın yapısal, yüzeysel ve optik özellikler üzerine etkileri sırasıyla X-ışını kırınımı (XRD) yöntemi, alan emisyonlu taramalı elektron mikroskopisi (FESEM) ve UV-Vis. Spektroskopisi ile incelenmiştir. İncelemeler sonucunda katkılama ile TiO2 ince filmlerin özelliklerinin kontrollü bir şekilde değiştirilebileceği görülmüştür.